ZESTRON America社が、新しく開発したFAST(Fact Acting Surfactant Technology)洗浄技術を発表した。

　ZESTRON America社が、新しく開発したFAST(Fact Acting Surfactant Technology)洗浄技術を発表した。

　FASTをベースとした洗浄液は、新しく開発した界面活性剤の混合液であり、多種多様な最新の鉛フリーはんだや共晶はんだのフラックス残渣をより速く除去することができる。従来の界面活性剤をベースとした洗浄液と比較すると、この新しい技術により洗浄時間がかなり短くなり、基板表面から汚染物質を完全に除去するための洗剤量を減らすことができる。FASTは固体成分がなく、基板上もしくは装置内に残渣を残さない。FASTの洗浄液は、ATRON AC 205のように、高圧または中圧下での浸漬置換法のほか、インライン式やバッチ式洗浄システムで用いることができる。さらに、FAST洗浄液は、IPC 610やJ-STD 001、IPC-TM 650の最も厳しい要求を満たす。

　同社の応用技術センターで、FAST洗浄液を用いた詳細な洗浄実験が徹底的に行われ、インライン式やバッチ式の洗浄、超音波洗浄などの様々な洗浄プロセスで良好な結果が得られた。

　詳細は、www.zestron.comをご覧下さい。