温度プロセス開発と温度制御機器の大手メーカーで、産業界で数多くの受賞経験を誇るKIC社は、アリゾナ州テンピのフィエスタ・イン・リゾート・アンド・カンファレンス・センターで開催予定のSMTAアリゾナ万博&テック・フォーラムで、来たる2009年8月26日水曜日午前10:45-11:15に米州販売責任者（sales manager）Brian O’Leary氏が「収益性を高める温度プロファイルの7つの方法」と題した講演を行うことを発表しました。

温度プロセス開発と温度制御機器の大手メーカーで、産業界で数多くの受賞経験を誇るKIC社は、アリゾナ州テンピのフィエスタ・イン・リゾート・アンド・カンファレンス・センターで開催予定のSMTAアリゾナ万博&テック・フォーラムで、来たる2009年8月26日水曜日午前10:45-11:15に米州販売責任者（sales manager）Brian O’Leary氏が「収益性を高める温度プロファイルの7つの方法」と題した講演を行うことを発表しました。

KICは何年もかけて顧客や研究機関と協力しながら、よりしっかりとした正確な温度プロファイルをもたらし、そればかりかSMTプロセスの原価削減と品質向上にも役立つ予測可能なモデルの基礎を成す、ある「ベストプラクティス」を見出したのです。

30分のセッションの後、KICは最近出版した、企業のプロセス改善のための温度プロファイルにおけるヒントや事例が満載の書籍（34.99ドル相当）を配布する予定です。

http://www.kicthermal.com