日本スペリア社が「産業財産権制度活用優良企業等表彰」の「特許庁長官表彰」を受賞しました。


岩井良行・特許庁長官より表彰状を受ける西村社長。

平成22年度「知財功労賞」の授賞式が10月18日、東京都千代田区の帝国ホテルの「富士の間」で行われ、受賞した日本スペリア社の西村哲郎社長と西村利郎会長が式典に臨みました。
「知財功労賞」は、経済産業省・特許庁が産業財産権制度の普及啓発を目的に、その制度の発展に貢献した個人や企業を表彰する制度です。
同社は、独自の鉛フリーはんだの開発で特許を取得したことや特許を経営上の重要テーマとしていること、新しい特許権や商標権の取得を視野に入れた商品開発を推進していること、また国内外の大学との共同研究などグローバルな研究活動を行っていることなどが評価され、「産業財産権制度活用優良企業等表彰」の「特許庁長官表彰（特許活用優良企業）」を受賞しました。
表彰式は、例年4月18日の「発明の日」に行われていますが、今年は産業財産権制度125周年にあたり、その特別記念式典と併せて実施されたためこの日の開催となりました。
記念式典は天皇皇后両陛下御臨席の下、内閣総理大臣、衆参両院議長、最高裁判所長官、その他国会、関係省庁、関係団体などから約600名が出席して行われました（総理ほか大臣は代理人が出席）。
式典は10時30分に開会。天皇陛下より御言葉を賜った後、来賓が祝辞を述べました。その後「知財功労賞」の授賞式に移り、同社の西村社長が岩井良行・特許庁長官より表彰状の授与を受けました。



日本スペリア社 代表取締役社長 西村哲郎氏のコメント

「当社は、はんだ製品の研究開発、その成果としての知的財産権の取得と維持、そして事業のグローバル展開を、経営上の三大テーマとしてきました。今回その取り組みの一つが高く評価され、素晴らしい賞を受賞できたことは誠に光栄です。この受賞を励みに、今後も鉛フリーはんだ「SN100C」（Sn-Cu-Ni+Ge）の新展開はもとより、さらなる新製品の研究開発を推進し、はんだメーカーのイノベーターを目指して邁進していきたいと思います。」


受賞者の記念撮影（左端が西村社長）。


松下忠洋・経済産業副大臣と西村社長。