2011年5月サンディエゴ、サーマルプロセス開発及び制御製品のトップメーカーで、多数のインダストリアワード受賞に輝くKIC社が、Manual KIC 24/7、MVP プロファイルフィクスチャ（MVP Profile Fixture）にプロセスコントロールシステム（Process Control Systems）の分野で、2011年EM Asia Innovation Awardが贈られたことを発表した。MVPプロファイルフィクスチャは、リフロー炉内の変化監視及びこれらの変化の生産用基板プロファイルへの影響を測定する。

リフロー炉の定期点検をフィクスチャに頼ってきた企業は、長い間、｢キャッチ22｣的な状況－多数のプロファイル必要性のために本物の生産基板を多数犠牲にする余裕がない一方、重フィクスチャを使用しても顧客のリクエスト通りの実際のPCB使用に基づいたプロファイルを測定できないといった状況にあった。KIC社製、ヴァーチャルプロファイリング技術装備、新MVPフィクスチャー使用により、電子アセンブラは、（両方の世界の）ベストな結果を実現できる。

授賞式は、2011年5月12日、NEPCON China 2011開催中のShanghai Everbright Convention & Exhibition Centerにて開催された。KIC MVPは、センサー内蔵技術により個別のPCBプロファイルを精密測定、初回プログラム操作以降の実物PCB使用の必要がない。さらに、リフロー炉内で観察された変化が生産基板プロファイルへ与える影響について直ちに予測、変化は瞬時に数値とともにプロファイル図表に表示、オペレータに異常を知らせる。異常測定後、ソフトウェアによって技術管理者にリフロー炉の異常プロセスの対策が伝達、これにより、生産工程の迅速な再始動が可能となる。MVPは、KIC社製受賞歴のあるSlimKIC及びKIC Explore プロファイララインで使用可能である。

2006年の初開催以来、EM Asia Innovation Awardsプログラムはアジア地域のエレクトロニクス産業における優れた製品を評価し、その実績を称えるため開催されてきた。企業スタンダードを最高水準にまで引き上げ、エレクトロニクス産業界を発展させる役割を担う。 www.kicthermal.com