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2011年11月、カリフォルニア州サンディエゴ: サーマルプロセス技術および制御製品のトップメーカーで、これまで数々の賞を受賞しているKIC社が、今回グローバルテクノロジーアワード(Global Technology Award)を受賞したことを発表した。

環境配慮製品/サービス分野での受賞で、オートフォーカスパワーソフトウェア(Auto-Focus Power Software)が高い評価を受けた。授賞式は、2011年11月15日(火曜日)に、プロダクトロニカ2011(Productronica 2011)開催中の新ミュンヘントレードフェアセンター(New Munich Trade Fair Centre、ドイツ、ミュンヘン)で行われる。
新世代のサーマルプロセス最適化システムは、関連するリフロー炉の諸条件を検出・検索し、対象基板に最適なプロセスの設定条件の算定結果を、ほぼリアルタイムに提示してくる。標準タイプのオートフォーカス(Auto-Focus)は、温度プロファイル規格の中央値を確保することを狙いとして、温度設定条件、ないしは適正範囲で最速の基板搬送条件を算定・提示する。
この技術をさらに発展させた、最新のオートフォーカスパワーソフトウェア(Auto-Focus Power software)では、プロセスの設定条件の第三の選択肢として、適正範囲内で消費電力が最少となる省エネモードの運転条件を検索することもできる。この効果については、第三者機関の調査によって、最大15%の消費電力量の削減効果をもたらすことが報告されている。エネルギー価格が高騰する今日の環境下で、この技術は、エネルギーコスト低減の決め手ともなりうる。
KIC社プレジデントのBjorn Dahle 氏は次のように語る。「オートフォーカスパワーの技術を誇りに思うと同時に、これが認められたことを大変嬉しく思います。一つの技術で、使用する皆さんに、これだけ多彩な効果をもたらしうる開発には、なかなか巡り会えないものです。リフロー炉の適正条件を導き出すことで、「オートフォーカスパワー」は、品質の向上に効果をもたらしますし、またプロセスのコストの低減にも有効です。オートフォーカスパワーは、先端技術が凝縮した素晴らしい技術だと思っています。」
2005年の初開催以来、グローバルテクノロジーアワードプログラム(Global Technology Awards program)は、エレクトロニクス表面実装分野の優れた製品を表彰するために毎年開催されている。クリエイティブ、かつ技術的進歩性の点で最も優秀な製品が、プレミアムプロダクトとして、この分野の専門家で構成された審査委員によって選出される。
Auto-Focus Power Software に関するさらに詳しい内容は、KIC社のウェブサイトwww.kicthermal.com でご覧いただけます。
米国サンディエゴに本社を置くKIC社はリフロー炉、はんだ槽、硬化炉、半導体製品の熱プロセス管理用ツール、システムで業界トップ。リフロープロファイラー(温度測定・記録装置)およびプロセス管理技術のパイオニアである。新世代の熱プロセス監視システム、管理プロセス最適化技術の開発に取り組んでいる。
リフロープロファイラーKIC Explorerのほか、KIC24/7連続監視システム、KIC Vision自動プロファイリングシステム等の製品がある。KIC社はこれまでに最先端の技術を送り出して、多くのインダストリアワードを受賞してきたが、今後ともプロセスの最適化技術、リアルタイム監視システムの分野で新技術の創出と普及に取り組んでいく。 |