A ZESTRON America bejelentette új fejlesztésű FAST (Fact Acting Surfactant Technology) tisztítási technológiáját. A FAST tisztítóágensekben kombinált összetevk gyorsan eltávolítják a legújabb ólommentes és eutektikus összetételű forraszpaszták maradványait. Az új fejlesztésű megoldás sokkal rövidebb kontaktidővel távolítja el teljesen a felületet szennyező anyagokat. A FAST szilárdanyag-mentes formulája se a hordozó felületén, se a berendezésben nem hagy maga után lerakódást. A FAST-alapú tisztítóágensek, mint pl. az ATRON AC 205, használhatók közepes és nagy nyomású, inline és batch tisztító berendezésekben is egyszerű anyaghelyettesítés útján. A FAST-alapú tisztítóágensek megfelelnek az IPC 610, a J-STD 001 és az IPC-TM 650 előírásoknak is.

További információ: www.zestron.com.