A Rohm és Haas Electronic Materials megtartotta új, ötemeletes K+F központjának megnyitását a koreai Chonan-ban. Az egyik legutóbbi, 30 millió USD értékű beruházásukkal létrehozott központ kiterjeszti a vállalat kutatási-fejlesztési kapacitását a 193 nm-es fotorezisztekre, valamint a szerves és szilícium-alapú anti-reflektánsokra. Az új központban dolgozóknak 193 és 248 nm-es litográfiai klaszterek, valamint csúcstechnológiás hibakereső és metrológiai eszközök állnak rendelkezésére.

A K+F és mérnöki tevékenységek fejlesztése 2007-ben folyamatosan fog történni, lévén a következő generációs félvezetőkre, elektronikus anyagokra irányuló globális igény ezt megköveteli.

További információ: www.rohmhaas.com