A Rohm and Haas Electronic Materials 60 millió dollárt fektet be csúcstechnológiás litográfiai berendezésekbe, amellyel a félvezetőipar számára végzett 193 nm-es fotoreziszt- és antireflexiós bevonatfejlesztésüket kívánják támogatni.

A beruházásban a Rohm and Haas megvásárol egy ASML gyártmányú TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan rendszert, amelyet 2008 első negyedévében fognak üzembe állítani a vadonatúj metrológiai és egyéb berendezésekkel is.

További információ: www.rohmhaas.com.